06年2月20日,IBM位于加州的Almaden实验室,利用深度紫外线激光刻印技术DUV,制造出了全球目前最小的电路模点,该点的宽度是29.9纳米,仅相当于目前芯片厂在用的最小刻度制作技术的三分之一。一纳米相当于一百万分之一米。29.9纳米芯片制造技术是在IBM Nemo工具下开发出来的,IBM Nemo芯片开发工具由IBM和JSR公司联合研制。(e129)
06年2月20日,IBM位于加州的Almaden实验室,利用深度紫外线激光刻印技术DUV,制造出了全球目前最小的电路模点,该点的宽度是29.9纳米,仅相当于目前芯片厂在用的最小刻度制作技术的三分之一。一纳米相当于一百万分之一米。
29.9纳米芯片制造技术是在IBM Nemo工具下开发出来的,IBM Nemo芯片开发工具由IBM和JSR公司联合研制。(e129)
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